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标准简介
重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
Test method for measuring oxygen contamination in heavily doped silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
基础信息
  • 标准号: SJ/T 11498-2015
  • 发布日期: 2015/4/30
  • 实施日期: 42278
  • 中国标准分类号: H82
  • 中国标准分类号: 29.045
  • 归口单位: 全国半导体材料和设备标准化技术委员会(TC203)
  • 主管部门: 工业和信息化部(电子)
起草单位
:信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、苏州晶瑞化学有限公司、天津中环领先材料技术有限公司
起草人